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X射線(xiàn)衍射儀原理——X射線(xiàn)衍射法 發(fā)布日期:2014-02-02 00:00:00    文章來(lái)源:萊雷科技

   X射線(xiàn)衍射法是一種利用單色X射線(xiàn)光束照射到一顆晶體(單晶X射線(xiàn)衍射法,SXRD)或眾多隨機(jī)取向的微小晶體(粉末X射線(xiàn)衍射法,PXRD)來(lái)測(cè)量樣品分子三維立體結(jié)構(gòu)或特征X射線(xiàn)衍射圖譜的檢測(cè)分析方法。①

  固體化學(xué)物質(zhì)狀態(tài)可分為晶態(tài)(或稱(chēng)晶體)和非晶態(tài)(或稱(chēng)無(wú)定型態(tài)、玻璃體等)物質(zhì)兩大類(lèi)。

  晶態(tài)物質(zhì)(晶體)中的分子、原子或離子在三維空間呈周期性有序排列,晶體的最小重復(fù)單位是晶胞。晶胞是由一個(gè)平行六面體組成,含有三個(gè)軸(a、b、c,單位:?)和三個(gè)角(α、β、γ,單位:°),被稱(chēng)為晶胞參數(shù)。晶胞沿(x、y、z)三維的無(wú)限有序堆積排列形成了晶體。

  非晶態(tài)物質(zhì)(無(wú)定型態(tài)、玻璃體等)中的分子、原子或離子在三維空間不具有周期性排列規(guī)律,其固體物質(zhì)是由分子、原子或離子在三維空間雜亂無(wú)章的堆積而成。

  X射線(xiàn)衍射的基本原理:當(dāng)一束X射線(xiàn)通過(guò)濾波鏡以單色光(特定波長(zhǎng))照射到單晶體樣品或粉末微晶樣品時(shí)即發(fā)生衍射現(xiàn)象,衍射條件遵循布拉格方程式:

式中  dhk

為面間距(hkl為晶面指數(shù));

n為衍射級(jí)數(shù);

λ為X射線(xiàn)的波長(zhǎng);

θ為掠射角。

  金屬銅(Cu)與鉬(Mo)為有機(jī)化合物樣品常用的X射線(xiàn)陽(yáng)極靶元素,Cu靶波長(zhǎng)λ為1.54178?,Mo靶波長(zhǎng)λ為0.71073?。X射線(xiàn)由Kα和Kβ組成,一般采用Kα線(xiàn)作為單晶X射線(xiàn)衍射的結(jié)構(gòu)分析或粉末X射線(xiàn)衍射的成分與晶型分析的特征X射線(xiàn)。②[2]

  當(dāng)X射線(xiàn)照射到晶態(tài)物質(zhì)上時(shí),可以產(chǎn)生衍射效應(yīng);而當(dāng)X射線(xiàn)照射到非晶態(tài)物質(zhì)上時(shí)則無(wú)衍射效應(yīng)。單晶X射線(xiàn)衍射結(jié)構(gòu)(晶型)定量分析和粉末X射線(xiàn)成分(晶型)定性與定量分析均是依據(jù)X射線(xiàn)衍射基本原理。

X射線(xiàn)衍射儀器是由X射線(xiàn)光源(直流高壓電源、真空管、陽(yáng)極靶)、準(zhǔn)直系統(tǒng)(準(zhǔn)直管、樣品架)、儀器控制系統(tǒng)(指令控制、數(shù)據(jù)控制)、冷卻系統(tǒng)組成。

  一、單晶X射線(xiàn)衍射法 ③

  單晶X射線(xiàn)衍射分析法使用一顆單晶體即可獲得樣品的化合物分子構(gòu)型和構(gòu)象等立體結(jié)構(gòu)信息,主要包括:空間群、晶胞參數(shù)、分子式、結(jié)構(gòu)式、原子坐標(biāo)、成鍵原子的鍵長(zhǎng)與鍵角、分子內(nèi)與分子間的氫鍵、鹽鍵、配位鍵等。

  單晶X射線(xiàn)衍射分析技術(shù)是定量檢測(cè)樣品成分與分子立體結(jié)構(gòu)的絕對(duì)分析方法,它可獨(dú)立完成對(duì)樣品的手性或立體異構(gòu)體分析、共晶物質(zhì)分析(含結(jié)晶水或結(jié)晶溶劑等)、純晶型物質(zhì)分析(分子排列規(guī)律變化)等。由于單晶射線(xiàn)衍射分析實(shí)驗(yàn)使用一顆晶體,所以采用該分析法可獲得晶型純品物質(zhì)信息。

  單晶X射線(xiàn)衍射分析通過(guò)兩次傅里葉變換完成結(jié)構(gòu)分析目的。該方法適用于對(duì)晶態(tài)物質(zhì)的結(jié)構(gòu)或晶型分析。單晶X射線(xiàn)衍射實(shí)驗(yàn)中,Cu靶適用對(duì)化合物分子的絕對(duì)構(gòu)型測(cè)定, Mo靶適用對(duì)化合物分子的相對(duì)構(gòu)型測(cè)定(含有鹵素或金屬原子的樣品除外)。

  試樣的制備及有關(guān)實(shí)驗(yàn)技術(shù):

試樣制備:?jiǎn)尉射線(xiàn)衍射分析要求使用一顆適合實(shí)驗(yàn)的單晶體,一般需要采用重結(jié)晶技術(shù)通過(guò)單晶體培養(yǎng)獲得。晶體尺寸在0.1~1.0mm之間。單晶體應(yīng)呈透明狀、無(wú)氣泡、無(wú)裂紋、無(wú)雜質(zhì)等,晶體外形可為塊狀、片狀、柱狀,近似球狀或塊狀晶體因在各方向?qū)射線(xiàn)的吸收相近,所以屬最佳實(shí)驗(yàn)用晶體外形。

晶體樣品對(duì)X射線(xiàn)的衍射能力受到來(lái)自?xún)?nèi)部和外部的影響。晶體樣品自身內(nèi)部影響因素主要為組成晶體的化學(xué)元素種類(lèi)、結(jié)構(gòu)類(lèi)型、分子對(duì)稱(chēng)排列規(guī)律、作用力分布、單晶體質(zhì)量等;儀器外部影響因素包括X射線(xiàn)發(fā)生器功率、陽(yáng)極靶種類(lèi)等。

當(dāng)使用Cu靶實(shí)驗(yàn)時(shí),衍射數(shù)據(jù)收集的2θ角要大于114°;當(dāng)使用Mo靶實(shí)驗(yàn)時(shí),衍射數(shù)據(jù)的收集的2θ角要大于54°。

晶胞參數(shù)三個(gè)軸(a、b、c,單位:?)的誤差在小數(shù)點(diǎn)后第三位,三個(gè)角(α、β、γ,單位:°)的誤差在小數(shù)點(diǎn)后第二位;原子相對(duì)坐標(biāo)的誤差在小數(shù)點(diǎn)后第四位,鍵長(zhǎng)的誤差在小數(shù)點(diǎn)后第三位,鍵角的誤差在小數(shù)點(diǎn)后第一位。

本法適用于樣品的定量分子立體結(jié)構(gòu)分析、手性分析、晶型分析、結(jié)晶水含量分析、結(jié)晶溶劑種類(lèi)與含量分析等。

儀器校準(zhǔn):儀器應(yīng)定期使用儀器生產(chǎn)廠(chǎng)家自帶的標(biāo)準(zhǔn)樣品進(jìn)行儀器校正。

二、粉末X射線(xiàn)衍射法

   粉末X射線(xiàn)衍射法可用于樣品的定性或定量的物相分析。每種化學(xué)物質(zhì),當(dāng)其化學(xué)成分與固體物質(zhì)狀態(tài)(晶型)確定時(shí),應(yīng)該具有獨(dú)立的特征X射線(xiàn)衍射圖譜和數(shù)據(jù),衍射圖譜信息包括衍射峰數(shù)量、衍射峰位置(2θ值或d值)、衍射峰強(qiáng)度(相對(duì)強(qiáng)度,絕對(duì)強(qiáng)度)、衍射峰幾何拓?fù)洌ú煌苌浞彘g的比例)等。④

   粉末X射線(xiàn)衍射法適用于對(duì)晶態(tài)物質(zhì)或非晶態(tài)物質(zhì)的定性鑒別與定量分析。常用于固體物質(zhì)的結(jié)晶度定性檢查、多晶型物質(zhì)種類(lèi)、晶型純度等分析。粉末X射線(xiàn)衍射實(shí)驗(yàn)中,通常使用Cu靶為陽(yáng)極靶材料。

   晶態(tài)物質(zhì)的粉末X射線(xiàn)衍射峰是由數(shù)十乃至上百個(gè)銳峰(窄峰)組成;而非晶態(tài)物質(zhì)的粉末X射線(xiàn)衍射峰的數(shù)量較少且呈彌散狀(為寬峰或饅頭峰),在定量檢測(cè)時(shí),二者在相同位置的衍射峰的絕對(duì)強(qiáng)度值存在較大差異。

   當(dāng)化學(xué)物質(zhì)有兩種或兩種以上的不同固體物質(zhì)狀態(tài)時(shí),即存在有多晶型(或稱(chēng)為同質(zhì)異晶)現(xiàn)象。多晶型現(xiàn)象可以由樣品的分子構(gòu)型、分子構(gòu)象、分子排列規(guī)律、分子作用力等變化引起,也可由結(jié)晶水或結(jié)晶溶劑的加入(數(shù)量與種類(lèi))形成。每種晶型物質(zhì)應(yīng)具有確定的特征粉末X射線(xiàn)衍射圖譜。

    當(dāng)被測(cè)定樣品化學(xué)結(jié)構(gòu)相同,但衍射峰的數(shù)量和位置、絕對(duì)強(qiáng)度值或衍射峰形幾何拓?fù)溟g存在差別時(shí),即表明該化合物可能存在多晶型現(xiàn)象。

  試樣的制備及有關(guān)實(shí)驗(yàn)技術(shù):

  試樣的制備:粉末晶體顆粒過(guò)大或晶體呈現(xiàn)片或針狀樣品容易引起擇優(yōu)取向現(xiàn)象,為排除擇優(yōu)取向?qū)?shí)驗(yàn)結(jié)果的干擾,對(duì)有機(jī)樣品需要增加研磨并過(guò)篩(通常為100目)的樣品前處理步驟。

  實(shí)驗(yàn)進(jìn)樣量:當(dāng)采用粉末X射線(xiàn)衍射技術(shù)進(jìn)行定量分析時(shí),需要對(duì)研磨后過(guò)篩樣品進(jìn)行精密定量稱(chēng)取,試樣鋪板高度應(yīng)與板面平行。

 衍射數(shù)據(jù)收集范圍:當(dāng)使用銅Cu靶實(shí)驗(yàn)時(shí),衍射數(shù)據(jù)收集的范圍(2θ)一般至少應(yīng)在④ 增加了粉末X射線(xiàn)衍射法獲得的衍射圖譜的信息,并對(duì)該法的適用范圍進(jìn)行了描述。3~60°之間,有時(shí)可收集至1~80° ⑤。

定量分析方法:可采用標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)法,含外標(biāo)法、內(nèi)標(biāo)法與標(biāo)準(zhǔn)加入法⑥。

定量分析時(shí),應(yīng)選擇一個(gè)具有特征性的衍射峰進(jìn)行。內(nèi)標(biāo)法應(yīng)建立內(nèi)標(biāo)物質(zhì)與衍射強(qiáng)度之間的線(xiàn)性關(guān)系。內(nèi)標(biāo)物質(zhì)選取原則是應(yīng)與樣品的特征衍射峰不發(fā)生重疊,同時(shí)二者對(duì)X射線(xiàn)的衍射能力應(yīng)接近。制作標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)時(shí),應(yīng)取固定質(zhì)量但含量比例不等的內(nèi)標(biāo)物質(zhì)與樣品均勻混合,定量分析時(shí),應(yīng)保證被測(cè)樣品含量在標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)的線(xiàn)性范圍內(nèi);外標(biāo)法應(yīng)建立標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)不同質(zhì)量與衍射強(qiáng)度之間的線(xiàn)性關(guān)系。制作標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)時(shí),應(yīng)取不同質(zhì)量的樣品。定量分析時(shí),應(yīng)保證被測(cè)樣品含量在標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)的線(xiàn)性范圍內(nèi);標(biāo)準(zhǔn)加入法應(yīng)保證加入標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)和被測(cè)物質(zhì)衍射峰強(qiáng)度接近,二者具有良好的分離度且不重疊。

定量分析時(shí),應(yīng)平行實(shí)驗(yàn)3次,取算術(shù)平均值。當(dāng)樣品存在多晶型物質(zhì)狀態(tài),且壓力能引起晶型轉(zhuǎn)變時(shí),定量分析方法應(yīng)慎用。當(dāng)多晶型衍射圖譜的衍射峰數(shù)量和位置基本相同,但衍射峰的幾何拓?fù)鋱D形存在較大差異時(shí),應(yīng)適當(dāng)增加特征衍射峰的數(shù)量(從一般使用1個(gè)特征峰,增加到使用3~5個(gè)特征峰),以證明晶型含量與特征衍射峰間存在線(xiàn)性關(guān)系。

采用相同制備方法的等質(zhì)量試樣定量分析,在同一實(shí)驗(yàn)條件下,樣品與標(biāo)準(zhǔn)品的2θ值數(shù)據(jù)誤差范圍為±0.2°,衍射峰的相對(duì)強(qiáng)度誤差范圍為 ±5%,否則應(yīng)考慮重新進(jìn)行實(shí)驗(yàn)或可能存在多晶型問(wèn)題。⑦

本法適用于樣品的結(jié)晶性檢查、樣品與標(biāo)準(zhǔn)品的異同性檢查、樣品生產(chǎn)工藝穩(wěn)定性檢查、樣品化學(xué)純度檢查與定量分析(當(dāng)雜質(zhì)成分含量大于1% 時(shí)在衍射圖譜中可以識(shí)別),樣品的晶型鑒別與晶型純度定量分析等。

儀器校準(zhǔn):儀器應(yīng)定期使用標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)Al2 O3或單晶硅粉進(jìn)行儀器校正。⑧

起草單位:醫(yī)科院藥物研究所

審校:醫(yī)科院藥物研究所  呂揚(yáng)




①X射線(xiàn)衍射法分為單晶X射線(xiàn)衍射法與粉末X射線(xiàn)衍射法,兩種分析方法具有不同的應(yīng)用范圍,故在新版藥典中將X射線(xiàn)粉末衍射法修訂為X射線(xiàn)衍射法,并收錄了單晶X射線(xiàn)衍射分析方法與粉末X射線(xiàn)衍射分析方法。新修訂的X射線(xiàn)衍射法對(duì)原理及晶體學(xué)表述進(jìn)行了規(guī)范,使之更符合藥物晶體學(xué)術(shù)語(yǔ)及表達(dá)習(xí)慣,使其更具科學(xué)性和準(zhǔn)確性。

② 有機(jī)化學(xué)藥物分析常用金屬靶元素與波長(zhǎng)。

③ 增加了單晶X射線(xiàn)衍射分析法相關(guān)內(nèi)容。

⑤當(dāng)使用Cu靶實(shí)驗(yàn)時(shí),衍射數(shù)據(jù)收集的范圍(2θ)應(yīng)在3~80°,因?yàn)橐恍┯袡C(jī)藥物分子通常在60°以后仍然存在大量的衍射峰。

⑥ 外標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)法亦是常用的定量分析方法,應(yīng)予以介紹。

⑦ 定量分析時(shí),需要準(zhǔn)確測(cè)定衍射強(qiáng)度,故在實(shí)驗(yàn)中應(yīng)采取平行試驗(yàn)以消除偶然誤差,并嚴(yán)格規(guī)定數(shù)據(jù)的誤差范圍(衍射峰的相對(duì)強(qiáng)度誤差范圍為從±20%修訂為±5%),以獲得準(zhǔn)確的測(cè)量結(jié)果。

⑧ 增加儀器校準(zhǔn)部分,以保證獲得數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。